TEM窗格

技术背景情况

TEM薄膜窗口是利用MEMS技术制备而成,由于此种窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜,因此比计量式薄膜更坚固耐用。甫一提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域,例如,X-射线、TEM、SEM、IR、UV等。

客户案例图

TEM窗格TEM窗格TEM窗格TEM窗格

尺寸规格

3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:100 nm) 边框厚度: 200μm、381μm。 Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm


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