纳米多孔氮化硅薄膜

苏州甫一电子科技有限公司提供适用于TEM成像的高质量氮化硅薄膜窗口系列产品、适用于TEM的氮化硅微孔窗口样品载体系列产品、适用于TEM的硅基底框架系列产品、适应于分子生物、细胞方面检测的细胞筛系列,并可以进行定制化服务。产品均采用高精度的微纳米加工技术进行制备,具有低应力、高致密、良好稳定性的特点。

另外,苏州甫一电子科技有限公司多年研发的利用半导体加工技术制备具有微纳米结构的镍、铜基的金属微孔滤网,具有不同的尺寸结构。可应用于材料检测、光学分析等领域。

具体产品规格如下:

 

一、氮化硅微孔窗口

图1 纳米多孔氮化硅薄膜

规格:

薄膜厚度:8nm~200nm可调

窗口大小:0.5mm*0.5mm

孔径:厚度的10%以内

穿通区域:见下表

框架厚度:硅支撑结构200μm

框架半径:3mm*3mm

表面粗糙度:RMS Rq= 0.65 +/- 0.06nm,Ra= 0.45 +/- 0.02nm

主要应用于电镜分析领域。

 

表1 单窗口芯片

 

表2多窗口芯片

 

 

图2 芯片背面                            图3 芯片正面

 

 

 

二、低应力氮化硅薄膜及微孔芯片(细胞筛)

图4 低应力氮化硅薄膜       图5 氮化硅微孔芯片(细胞筛)

 

薄膜规格:

薄膜厚度:50nm超薄低应力双面氮化硅薄膜

亲水性:氮化硅薄膜上利用ALD方式沉积5nm羟基化氧化铝

疏水性:氮化硅薄膜上利用ALD方式沉积5nm氧化铝

Disk厚度:200μm

Disk直径:3mm

表面粗糙度:RMS (Rq) 0.65 +/- 0.06nm,Ra0.45 +/- 0.02nm

主要应用于各种MEMS薄膜器件。

 

微孔芯片(细胞筛)规格:

芯片尺寸:1mm*1mm-10mm*10mm可调

薄膜厚度:50-1000nm可调

孔径:100-1000nm可调

应力:低于100MPa

主要应用于生物、医学中的检测分析。

 

 

 

 

 

三、硅框架

图6 硅框架

 

规格:

单窗口尺寸:0.25 x 0.25mm, 0.5 x 0.5mm, 0.75 x 0.75mm, 1 x 1mm, 0.5 x 1.5mm

多窗口尺寸:9 窗口,单窗口0.1 x 0.1mm ; 2 窗口,单窗口0.1 x 1.5mm

窗口的角度:35.26°

框架厚度:200μm

框架直径:3mm

框架材料:硅

表面:单窗口双面50nm氮化硅,多窗口15nm氮化硅

主要应用于材料检测领域。

 

 

 

 

 

 

 

四、TEM 窗格

图7 不同结构的氮化硅薄膜窗口

 

 

五、金属网格

 

图8 金属Cu网格

图9 金属Ni网格

规格:

薄膜厚度:1μm~50μm可调

窗口大小:可订制

孔径: >1μm 可调